Stencil／Mask AOMI系统设计

摘要：

本文从分析AOI市场新需求出发，结合本公司在该领域的技术积累，提出了针对Stencil/Mask微细尺寸高精度测量和产品缺陷快速检测功能相结合的Stencil AOMI系统解决方案，重点介绍了Stencil AOMI系统的测晕功能(M)和检测功能(I)开发的新思路及技术特点，并系统地介绍了Stencil AOMI解决方案，最后给出了Stencil AOMI在实际生产中的具体应用实例及客户的MAC评审结果。

关键词： 自动光学检测 测晕功能 检测功能 产品缺陷检测

作者: 夏发平 宁军 魏志凌

作者单位: 昆山思拓机器系统有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009中国高端SMT学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 230-234

在线出版日期: 2009-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）