实时椭偏术及其在薄膜生长过程中的应用
基于旋转器件的多通道椭偏仪的设计使得它们可以用于诸如原位、实时等薄膜以及表面的分析。利用叠加光源组合可将光谱上限扩展至6.5 eV的远紫外波段。双旋转补偿器椭偏仪改变了入射以及反射光的偏振态，不仅可以得到传统椭偏角(ψ，△)，还可以得到反射光束的斯托克斯矢量。因此这可以提供光束截面上样品厚度变化信息，并可减小多重散射光效应，从而可以分析非均匀以及宏观粗糙表面。这些进展可用于平板显示技术中硅薄膜生长厚度演化的研究。
实时椭偏术 薄膜生长 薄膜光学性质 表面粗糙度 偏振态
陈赤 刘文德 巩岩 张巍
中国计量科学研究院光学所,北京 100013 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春 130033
国内会议
桂林
中文
520-524
2009-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）