基于通用X光机源的硬X射线光栅暗场成像技术研究
基于通用X光机源的光栅暗场成像技术克服了现有的硬X射线暗场成像技术对同步辐射源的依赖，根据不同物质对硬X射线散射能力的差异，可探测到传统硬x射线衰减成像(即明场成像)和相衬成像无法分辨到的物体内部的超微细结构，因而成为硬X射线成像领域中最新的研究方向之一。本文介绍了在通用X光机的非相干条件下基于投影方法的光栅式暗场成像技术的物理原理和成像机制，讨论了硬X射线暗场信息的提取方法和CT重建算法。在清华大学的硬X射线光栅成像实验平台的实验结果表明，暗场成像技术与传统硬x射线衰减成像技术、相衬成像技术能够通过光栅成像方式有机地统一起来，三种不同物理信息互为补充，会更加全面地展现物体结构，为在通用X光机源的非相干条件下的暗场成像技术开辟了一条新的思路。
硬X射线成像 暗场成像 广义散射参数 光栅成像 散射能力
黄志峰 张丽 康克军
清华大学工程物理系，北京 100084
国内会议
上海
中文
91-95
2009-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）