高档光刻胶发展在中国
随着我国微电子技术的迅猛发展，与之配套的材料的研发已经越来越成为制约其发展的瓶颈，材料的研发愈加显得迫切。尽管国家对材料的发展给予了一定的支持，但由于国内基础较差，前期综合投入较少，材料发展的步伐依旧十分的迟缓。特别是作为微电子技术发展的最为关键的基础材料—高档光刻胶的发展与国际水平相比差距更大，高档光刻胶水平的提高和本土化的实现，成为微电子技术发展过程中最为关键的一个环节。
微电子技术 高档光刻胶 材料设计
陈昕
北京科华微电子材料有限公司
国内会议
苏州
中文
141-144
2009-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）