PLD法制备的外延Bi<,4-x>La<,x>Ti<,3>O<,12>(x=1)铁电薄膜

摘要：

该文采用脉冲激光制膜法(PLD)在LaALO<,3>衬底上制备了Bi<,4-x>La<,x>Ti<,3>O<,12>(x=1)薄膜。对薄膜进行X射线衍射分析表面其在衬底上实现了外延生长，外延生长的薄膜具有铁电特性。

关键词： PLD法 衍射分析 外延生长 铁电薄膜

作者: 俞挺 康晋锋 韩汝琦 连贵君 熊光成

作者单位: 北京大学微电子所(北京) 北京大学物理系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 15～17

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）