薄膜精密电阻制作技术

摘要：

本文介绍用磁控溅射技术开发精密电阻工艺.通过溅射反应气体、热处理温度等工艺技术的研究制作出TCR参数优异、长期稳定性高的NiCr薄膜电阻,满足星用电路对高精度、高稳定薄膜电阻的需求.

关键词： 薄膜电阻 TCR 阻值稳定性 精密电阻工艺 磁控溅射 热处理温度

作者: 姜伟

作者单位: 中国航天科技集团第九研究院第七七一研究所,西安 710054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十六届全国混合集成电路学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 122-126

在线出版日期: 2009-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）