MOCVD技术生长薄膜电池用绒面结构IMO/ZnO薄膜

摘要：

本文利用MOCVD技术在缓冲层IMO薄膜上生长绒面结构ZnO-TCO薄膜。相比于通常直接生长的ZnO薄膜，IMO缓冲层的应用可有效提高绒面ZnO薄膜晶体质量，薄膜方块电阻可从8Ω降低至6Ω，薄膜电子迁移率从20.1cm2Ns提高至31.7cm2Ns；光学透过率测试表明，复合结构IMO/ZnO薄膜在可见光和近红外区域展现平均透过率-85％;此种新型TCO薄膜适合a-Si/uc-Si薄膜太阳电池应用。

关键词： 金属有机化学气相淀积 ZnO薄膜 IMO薄膜 高迁移率 太阳电池 绒面结构

作者: 林泉 陈新亮 韩东港 孙建 赵颖 耿新华

作者单位: 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所&南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室&南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国MOCVD学术会议

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 125-126

在线出版日期: 2010-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）