铱薄膜的MOCVD沉积效果研究
以乙酰丙酮铱为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在Mo基体上制备了Ir薄膜。研究了Ir的沉积效果与沉积温度及反应气体(O2)间的关系。Ir薄膜的沉积速率与沉积温度绝对温度的倒数呈抛物线关系,当温度为750℃时,Ir的沉积速率达到最大值,沉积温度对Ir薄膜的显微形貌有显著影响;O2的流量对薄膜的成分、形貌及结构等均有显著影响。
金属有机化学气相淀积 铱薄膜 沉积效果 沉积温度
蔡宏中 胡昌义 陈力 王云
昆明贵金属研究所,云南 昆明 650106 云南稀贵金属材料重点实验室,云南 昆明 650106
国内会议
苏州
中文
151-154
2010-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)