用Si3N4晶须结合剂合成PcBN组织结构的研究

摘要：

以Si3N4晶须为粘结剂，高温高压下合成了聚晶立方氮化硼，烧结压力5～7GPa，温度1400～1500℃，选用了石墨管+NaCl+钼杯组装方式。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)和金相显微镜等仪器设备研究了PcBN的组织结构，结果表明，PcBN烧结情况良好，结合剂对cBN高温润温情况良好，结合强度高。

关键词： Si3N4晶须 组织结构 聚晶立方氮化硼 结合剂

作者: 董企铭 位星 彭进 邹文俊

作者单位: 河南工业大学 450007

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009中国超硬材料行业技术发展论坛

会议地点: 郑州

会议语种:中文

页码: 53-55

在线出版日期: 2009-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）