交流中频溅射电源和平面双阴极技术在Low-E玻璃生产中的应用
从80年代末到21世纪初，大面积镀膜制备技术一直采用直流控制技术，这一技术一直无法解决高电弧放电、阳极消失以及靶面中毒现象，利用这一技术无法高效沉积SnOx、SINx、TiOx等绝缘物质。由于直流溅射存在上述的一些缺点，造成溅射工艺不稳定。用直流溅射电源就很难控制连续溅射，保持膜层均匀、稳定。在Low－E玻璃的生产过程中，需要高效沉积SnOx、SINx等各种介质膜，工艺要求高，溅射必须保持稳定，直流溅射显然不是最佳的工艺手段。通过试验和研究，格兰特公司引进了当今最先进的交流中频溅射电源和平面双阴极技术，采用交流中频电源替代直流电源，孪生双靶代替单靶。消除了直流溅射所碰到的高电弧和阳极消失现象，保证溅射工艺的稳定和溅射生产的连续进行。本文介绍了交流中频溅射电源和平面双阴极技术的技术优势，从而在镀膜生产线上加以推广和应用，并介绍了氧分压模糊逻辑控制技术在Low－E生产工艺中的应用。
直流溅射 交流中频溅射电源 平面双阴极 氧分压 模糊逻辑控制 Low-E玻璃生产
杨沐芳
格兰特工程玻璃(中山)有限公司 广东中山市 528437
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172-175
2009-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）