改变旋涂速率制备有序介孔SiO2薄膜结构的正电子湮没和X射线反射率技术表征

摘要：

本工作采用溶胶-凝胶法通过改变旋涂速率制备具有三维六角和三维立方结构的介孔SiO2薄膜，并通过慢正电子湮没技术以及同步辐射小角X射线反射率研究其介孔结构随旋涂速率的变化。

关键词： 二氧化硅薄膜 慢正电子湮没 X射线反射率 溶胶-凝胶法 介孔结构 旋涂速率

作者: 张鹏 秦秀波 马敏阳 于润升 贾全杰 王宝义 魏龙

作者单位: 中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室,北京 100049 郑州大学物理工程学院,郑州 450001 中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室,北京 100049

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国正电子湮没谱学会议

会议地点: 南宁

会议语种:中文

页码: 62-63

在线出版日期: 2009-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）