BiFeO3多晶薄膜微结构的X射线分析及晶界形态对电学性能的影响

摘要：

由于多铁性材料不仅蕴含着铁电、铁磁、铁弹等有序参量之间的耦合等丰富的基础科学问题，而且在铁电/铁磁存储器、MEMS等方面具有极大的应用前景，因此受到研究者们的广泛关注。BiFeO3是一种单相多铁性材料，具有类钙钛矿结构且空间群为R3m(晶格常数a=0.396nm，α=89.5°);其所具有的较高居里温度Tc～1103 K和奈尔温度TN～643 K使之成为此类研究的典型代表。在该体系中，由氧空位(Vo)导致的漏电问题一直是制约电磁耦合研究和材料开发应用的关键问题。虽然在以往的研究中，通过元素掺杂及衬底诱导薄膜取向生长的手段，对BiFeO3的漏电实现了一定的抑制，但是对其中的作用机理研究尚处于探索阶段，尤其是对其中的界面效应还未给予重视和深入的探讨。

关键词： 多晶薄膜 微结构 X射线分析 电学性能 晶界形态

作者: 崔忠慧 郭向欣 赵景泰 吴兴隆 郭玉国

作者单位: 中国科学院透明光功能先进无机材料重点实验室,中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050 中国科学院研究生院,北京,100064 中国科学院透明光功能先进无机材料重点实验室,中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050 中国科学院分子纳米结构与纳米技术重点实验室,北京分子科学国家实验室,中国科学院化学研究所,北京,100190 中国科学院研究生院,北京,100064 中国科学院分子纳米结构与纳米技术重点实验室,北京分子科学国家实验室,中国科学院化学研究所,北京,100190

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 36-37

在线出版日期: 2009-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）