CuO/TiO2复合薄膜的制备与表征

摘要：

TiO2薄膜由于其高折射率和机械强度，稳定的化学特性，高介电常数等特性，在光学、光电子学及电子学等领域有广泛的应用前景。近些年对TiO2薄膜改性的研究日益增多。射频磁控溅射法制备薄膜具有操作简单，重复性好等优点，是一种薄膜制备与改性的有效手段。用二氧化钛靶来制备薄膜，而且溅射气体只需使用单一的氩气，从而可将复杂的反应控制过程转化为较简单的制靶过程。因此利用磁控溅射制备性能优良的TiO2薄膜的研究具有重要实用价值和社会经济效益。

关键词： 复合薄膜 射频磁控溅射 薄膜制备 二氧化钛 薄膜改性

作者: 徐蕙 王顺利 朱小燕 姜平 刘爱萍 唐为华

作者单位: 浙江理工大学物理系,光电材料与器件中心,杭州,310018

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国X射线衍射学术大会暨国际衍射数据中心(ICDD)研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 248-251

在线出版日期: 2009-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）