改进的包络技术确定氟化物薄膜的光学常数
为了进一步研究明确氟化薄膜材料在深紫外/紫外波段(deepultrsviolet DUV/ultravjoletUV)的光学常数，本文研究了深紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料，分别在熔石英(JGSl)基底和氟化镁单品基底上用热舟蒸发镀制了三种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和三种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;用商用1ambdag00光谱仪测量了它们在190hm-500nm范围的透射率光谱曲线;从包络法得出的初始值出发，利用迭代算法减小极值点的选取对包络线的影响，强调实际测量数据，用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数，南柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散的折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合，得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的 MgF2和LaF3的结果相一致，证明了所得结果的可靠性。
氟化物薄膜 光学常数 包络技术 迭代算法 光谱曲线
薛春荣 易葵 晋云霞 邵建达 范正修
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800 常熟理工学院江苏新型功能材料实验室,常熟 215500 中国科技大学国家同步辐射实验室,合肥 230019 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800
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195-201
2009-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）