平板偏振膜内部驻波场的优化设计

摘要：

膜系设计是影响光学薄膜抗激光损伤能力的重要因素之一。本文在传统的needle法优化技术的基础上，利用包含电场优化项的新型评价函数，设计得到了带宽20nm，中心波长为1064nm的平板偏振膜。分析结果表明，此法不仅可使平板偏振膜具有优良的光谱性能，而且还能将驻波场波峰移入低折射率膜层。从而有效改善膜层内的电场分布，以减少薄膜的光学损耗。

关键词： 光学薄膜 平板偏振膜 优化设计 needle法 电场分布 光谱性能

作者: 陈乃波 吴永刚 凌磊婕 王振华

作者单位: 同济大学物理系,上海200092 浙江工业大学之江学院理学系,浙江 杭州 310024 同济大学物理系,上海200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 上海市科协第七届学术年会—上海市激光学会2009年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 212-215

在线出版日期: 2009-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）