喷射型电感耦合等离子体化学气相沉积法制备的微晶硅薄膜孵化层的演化
氢化微晶硅薄膜由于在薄膜太阳电池中的应用潜力而受到人们的普遍关注。但是传统的化学气相沉积等方法制各的微晶硅薄膜存在一些不足：如薄膜生长速率较低；而且沿薄膜生长方向存在较为严重的结构不均匀性，尤其是当薄膜沉积在非晶衬底上时，薄膜与衬底界面处难以避免地形成一层非晶过渡层，即所谓的孵化层。孵化层的存在增大了器件内阻从而对器件载流子输运影响较大。依据上述背景，本研究采用自主研发的喷射型电感祸合等离子体化学气相沉积系统(Jet-ICPCVD)制备了微晶硅薄膜。本文主要研究微晶硅薄膜孵化层结构的演化。
电感耦合 等离子体 化学气相沉积 微晶硅薄膜 薄膜生长 薄膜沉积
左则文 管文田 辛煜 闾锦 王军转 濮林 张荣 郑有炓 施毅
南京大学物理系;南京微结构国家实验室;江苏省光电功能材料重点实验。南京210093 南京大学 物理系;南京微结构国家实验室;江苏省光电功能材料重点实验。南京210093 苏州大学物理科学与技术学 院 苏州 215006 南京大学物理系;南京微结构国 家实验室;江苏省光电功能材料重点实验。南京210093 南京大学物理系;南京微结构国家实验室;江苏 省光电功能材料重点实验。南京210093 南京大学物理系;南京微结构国家实验室;江苏省光电功能材料重 点实验。南京210093
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185-186
2009-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）