喷射型电感耦合PECVD中微晶硅薄膜的沉积速率和结构特征
与非晶硅薄膜太阳电池相比，微晶硅薄膜太阳电池由于其高效率和高稳定性而受到广泛关注。等离子体化学气相沉积(PECvD)广泛应用于低温沉积微晶硅薄膜，甚高频和电感耦合等离子体化学气相沉积由于高的等离子密度和低的电子温度被应用于高质量薄膜的沉积；另一方面，为提高薄膜的沉积速率，直流、微波、电子束等离子体结合气体喷射被应用于实验室研究中。依据这些背景，本研究发展了喷射型电感祸合等离子体化学气相沉积技术，以SiH4和H2为反应气源，在无外界加热的条件下沉积微晶硅薄膜，期望以高的沉积速率沉积高质量的微晶硅薄膜，并探索应用于薄膜太阳电池的可行性。
电感耦合 微晶硅薄膜 沉积速率 化学气相沉积
管文田 左则文 辛煜 闾锦 濮林 旌毅
南京大学物理系;南京微结构国家实验室;江苏省光电功能材料重点实验。南京 210093 苏州大学物理科学与技术学院
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2009-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）