纳米絮状碳膜的制备及场发射特性

摘要：

碳纳米材料的研究已经成为当前国际上研究的热点之一。由于纳米结构碳膜具有低阈值电压和高发射电流的特性，因此其场发射研究越来越受到人们重视。本文采用电子回旋共振化学气相沉积(ECR.CVD)技术制备碳膜，此方法克服了一般CVD方法中的高温、高压条件下反应气体易与基片或设备发生反应的缺点，从而可获得高质量纳米结构碳膜。

关键词： 碳纳米材料 絮状碳膜 纳米结构 电子回旋共振 化学气相沉积

作者: 崔雪菡 顾广瑞

作者单位: 延边大学理学院 延吉 133002

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国半导体物理学术会议

会议地点: 长春

会议语种:中文

页码: 226

在线出版日期: 2009-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）