用于微等离子体无掩膜加工的带纳米孔空心针尖制作工艺研究
微纳米加工中，等离子体刻蚀技术因具有高刻蚀速率、良好的方向性和材料选择性等优势得到了广泛应用。但传统的刻蚀加工中，等离子体作用于整个样品表面，需要复杂且昂贵的掩膜来得到特定图形或结构。而将尺度微型化的微等离子体，除继承了宏观等离子体的优良特性外，还可实现局部无掩膜三维立体加工，因而受到广泛关注。目前文献报道的微等离子体无掩膜刻蚀器件通常只能获得百微米量级的刻蚀分辨率，这远远不能满足微纳米加工的精度需求。为此，本文提出了一种新的微等离子体无掩膜加工方法。将微放电器集成在压电悬臂梁探针阵列上，等离子体在倒金字塔空心针尖内产生，通过尖端的纳米孔导出到样品表面，从而实现亚微米甚至更高分辨率的无掩膜扫描并行加工。
等离子体刻蚀 无掩膜刻蚀 微纳米加工 压电悬臂梁
向伟玮 文莉 王海 张秋萍 褚家如
中国科学技术大学精密机械与精密仪器系，安徽合肥，230027 安徽工程科技学院，机械工程系，安徽芜湖，241000
国内会议
哈尔滨
中文
495-496
2009-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）