γ能谱法在电镀铀靶测量中的应用

摘要：

本文采用非破坏的γ能谱方法分析了3根在不同电镀工艺条件下制备的铀靶，通过对铀的分布及丰度测量数据的比较，2号铀靶计数率间的相对标准偏差小于1%，235U分布较为均匀，且铀靶上235U的含量较高，在该电镀工艺条件下制备铀靶可满足同位素生产要求。

关键词： γ能谱法 电镀工艺 铀靶 同位素生产

作者: 牟婉君 李梅 王小坤 陈琪萍

作者单位: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所,四川 绵阳 919信箱230分箱 621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届中国核靶技术学术交流会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 14-15

在线出版日期: 2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）