正电子湮没符合多普勒技术与材料微观缺陷结构表征

摘要：

目前，CDB(正电子湮没符合多普勒测量技术)技术发展己经非常成熟，本文主要讨论近些年发展的各种正电子谱学新方法的特点，简单列举一些在材料微观缺陷表征工作中的典型应用结果。

关键词： 正电子湮没 多普勒测量 材料微观缺陷

作者: 王宝义

作者单位: 中国科学院高能物理研究所,北京,100049

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届中国核靶技术学术交流会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 21

在线出版日期: 2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）