微米点阵列埋点靶的制备

摘要：

埋点靶就是研究材料等容加热、等离子体柱状喷射和冲击波的传输和加热的基本靶型。本靶需要解决的问题：微米量级较大高宽比，壁面垂直光滑，间隙填充CH等。电子束、离子束、光刻等等，都各有其优缺点，单一方法无法完全满足需要。本文采用电子束、x射线刻蚀，用电镀和CVD方法制作出了高质量的样品。现将具体的制备过程进行介绍，并表征了微米点阵列。

关键词： 微米点阵列 埋点靶 电子束 x射线刻蚀 激光惯性约束聚变

作者: 王衍斌 唐永建 朱效立 张林 陈志梅 马小军

作者单位: 激光聚变研究中心 621900、中科院微电子研究所 100029

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届中国核靶技术学术交流会

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 67-69

在线出版日期: 2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）