插值拟合法在薄膜表面形态模拟及均匀性分析中的应用研究

摘要：

利用径向基函数网络插值法模拟薄膜表面形态，并利用反距离加权平均插值法研究了薄膜的均匀性与静置时间和提拉速度的关系。结果表明：利用离散点插值拟合法研究光学薄膜表面的起伏变化以及均匀性分布，可以比较真实地反映薄膜表面形态特征和薄膜均匀性的变化规律。

关键词： 光学薄膜 表面形态 插值拟合 提拉速度

作者: 曹鸿 吴永刚 郑秀萍 张莉 付联效 焦宏飞 彭东功 王振华

作者单位: 同济大学，精密光学工程技术研究所，上海 200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 192-199

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）