Mo/Si多层膜表面保护层设计

摘要：

为提高Mo/Si多层膜的稳定性与使用寿命，研究Mo/Si多层膜表面保护层设计。通过分析多层膜驻波电场的分布，对表面保护层及多层膜最上层材料的厚度进行优化设计，使优化后的反射率最高。计算表明，一定厚度的表面保护层总对应一个最优的最上层材料厚度。在13.36nm波长，膜对数为50的Mo/Si多层膜10度入射的理论反射率为74.47％;当添加厚度为2.3nm的Ru作为表面保护层，对应多层膜最上层Si的优化厚度为3.93nm，其理论反射率为75.20％。设计结果表明，通过优化设计表面保护层，可以提高多层膜稳定性，改善多层膜性能。

关键词： 薄膜光学 多层膜 表面保护层 驻波电场分布

作者: 徐达 秦树基 陈玲燕 朱京涛 张众 王风丽 王晓强 王洪昌 蒋励 佘仕凤 王占山

作者单位: 同济大学精密光学工程技术研究所物理系，上海 200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 206-212

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）