3ω分光膜在1064nm的破斑特性研究

摘要：

研究3ω分光膜在1064nm的激光损伤特性。采用电子束蒸发的方式制备了两种不同材料组合的分光膜，分别对其在波长1064nm激光辐照下的损伤阈仁进行了测试，用Alpha-Step500台阶仪对破斑进行了深度测量，实验结果表明，破斑呈现出表面层的剥落和深坑破坏两种形态。表面层的剥落深度在一定范围内不随能量密度的变化而变化;深坑破坏深浅不一，是膜内缺陷融化、汽化及喷发的综和作用的结果，是损伤阈值降低的主要原因。

关键词： 光学薄膜 激光损伤 破斑深度 电子束蒸发

作者: 崔云 赵元安 晋云霞 范正修 邵建达

作者单位: 上海光学精密机械研究所，上海 201800 中国科学院研究生院，北京 100039 上海光学精密机械研究所，上海 201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 235-241

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）