相移光纤光栅激光器的制作研究

摘要：

遮挡法和二次曝光法是利用相位掩模板制作相移光纤光栅两种最常用的方法。通常利用遮挡法制作相移光纤光栅，可以比较容易地引入相移，但由于光纤折射率和紫外激光强度的波动而存在一定的误差，使得相移偏离P1/2，导致激光器的阈值升高，激光器输出功率很低，通常只有几百微瓦。而利用二次曝光法制作相移光纤光栅则因为难以找到合适的相移位置导致制作起来比较困难。在实验中发现，将两种方法结合起来，可以克服同时克服两种方法在引入相移过程中的不足。利用这种方法，获得了输出功率为20mW的1052.34nm的单纵模激光输出。

关键词： 光纤激光器 二次曝光法 遮挡法 相移光纤光栅

作者: 王利 陈嘉琳 常丽萍 李国扬 孙安 陈柏

作者单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年中国国际工业博览会科技论坛暨上海市激光学会2007年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 444-446

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）