日光温室滴灌条件下不同土壤水分下限对黄瓜生长的影响

摘要：

本文研究了滴灌条件下不同土壤水分下限对温室黄瓜生长发育、产量以及根系生长的影响。试验结果表明，日光温室滴灌条件下，黄瓜产量明显受土壤水分下限的影响，土壤水分下限为82％田间持水率的处理黄瓜产量最高。 随着生育期的推进，不同土壤水分下限对黄瓜株高、茎粗、叶面积指数的影响逐渐增加，参数间差异逐渐明显。土壤水分下限较高处理(82％和76％田持)的株高、茎粗、叶面积指数均高于其它2个处理。叶水势随着土壤水分下限的降低而下降。随着土壤水分下限的降低，黄瓜根系有向滴灌带附近生长的趋势。

关键词： 滴灌技术 日光温室 土壤水分下限 黄瓜产量 生长发育

作者: 赵月芬 李光永 李旌胜 王占生 朱晓勇

作者单位: 中国农业大学水利与土木工程学院,北京 100083 山西省中心试验站,文水 032107

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国微灌大会

会议地点: 甘肃酒泉

会议语种:中文

页码: 368-377

在线出版日期: 2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）