ICP增强磁控溅射沉积ZrN薄膜的耐腐蚀性能研究

摘要：

本文采用电感耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在M2钢表面制备了ZrN薄膜，研究N2流量对ZrN薄膜的结构和性能影响。将M2钢和ZrN薄膜试样分别在3.5％NaCl水溶液进行电化学腐蚀对比实验。结果表明：ZrN薄膜自腐蚀电位提高450-550mv，腐蚀电流密度降低至1/167-1/53，ZrN薄膜的耐腐蚀性能比M2钢基底有明显提高。

关键词： 感应耦合等离子体 磁控溅射 耐腐蚀性能 电化学腐蚀

作者: 刘峰 孟月东 任兆杏

作者单位: 中国船舶重工集团公司第七二五研究所,海洋腐蚀与防护国防科技重点实验室 青岛 266071 中科院等离子体研究所 合肥 230031

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008’材料腐蚀与控制学术研讨会

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 310-314

在线出版日期: 2008-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）