顺电(BaSr)TiO3缓冲层对(Bi，La)FeO3多铁性薄膜的性能影响

摘要：

本文从另一途径改善BFO薄膜性质。笔者在电极BLF/基片界面添加氧化缓冲层的方法，构筑非铁电层/铁电层/非铁电层的多铁性异质结构，抑制多铁性材料氧空位的不利影响。BLF脉冲激光沉积法生长(111)Pt/Ti/SiO2/Si衬底，利用BST为过渡层。初步结果表明，与单层BLF薄膜相比，BST/BLF/BST异质结铁电性质有较大改善，并讨论了顺电(BaSr)TiO3缓冲层对(Bi，La)FeO3多铁性薄膜的性能影响。

关键词： 氧化缓冲层 多铁性薄膜 异质结构 顺电缓冲层

作者: 苗君 姜勇

作者单位: 材料科学与工程学院，北京科技大学，100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议

会议地点: 贵州

会议语种:中文

页码: 26-27

在线出版日期: 2009-08-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）