X射线光电子能谱在薄膜材料分析中的应用

摘要：

薄膜材料一直是材料研究中的热点。与体材料不同，薄膜材料的检测需要应用到表面分析技术。X射线光电子能谱(XPS)在分析薄膜化学组分及其分布中有着重要的、不可替代的应用。本文简要介绍了XPS在碳纳米复合膜、离子注入掺杂非晶碳膜、硅片表面超薄氧化膜等研究中的常规应用。

关键词： X射线光电子能谱 碳纳米复合膜 离子注入 超薄层氧化硅 化学组分 非晶碳膜

作者: 吴正龙

作者单位: 北京师范大学分析测试中心 北京 100875

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议

会议地点: 贵州

会议语种:中文

页码: 113-119

在线出版日期: 2009-08-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）