XPS测定离子注入深度分布

摘要：

离子注入技术最初应用于半导体掺杂，由于其方法简单可控、节能环保、注入元素不限、对基材要求低，并且不改变基材的形貌，所以，离子注入技术已经成为材料表面工程的重要手段。本文下面采用XPS(X射线光电子能谱)测定Cr离子注入碳钢的Cr深度分布。综合实验结果及讨论，XPS可以作为离子注入深度分布的测试手段，并且能够给出离子注入量的相对深度分布，但是无法给出绝对量分布，并且最表面层的离子注入相对量偏差较大。

关键词： 离子注入 半导体掺杂 材料表面工程 X射线光电子能谱

作者: 马兰 程斌

作者单位: 北京化工大学分析测试中心，北京 100029 北京化工大学分析测试中心，北京 100029 北京化工大学新型高分子材料的制备与加工北京市重点实验室，北京 100029

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议

会议地点: 贵州

会议语种:中文

页码: 129-130

在线出版日期: 2009-08-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）