会议专题

Bil3-nylon 11纳米复合材料的XPS及ATR分析

本文用X射线光电子能谱法(XPS)分析了BiI3-nylon 11纳米复合材料和尼龙11聚合物膜,发现BiI3与nylon 11的复合破坏了原先聚酰胺相邻分子链间酰胺基团的氢键作用,取而代之的是发生在Bi(III)和羧基氧之间的相互作用,表明BiI3-nylon11纳米复合材料中BiI3与nylon 11(尼龙11)酸胺基团之间存在相互作用。由于Nls和Ols结合能位移较小,而样品制备和测试过程中又难以避免c和O的表面污染,这些都能影响XPS分析结果的准确性,为了分析BiI3对聚酰胺分子间氢键作用的影响,又采用衰减全反射红外光谱法(ATR)分析比较了纯nylon11和BiI3-nylon11纳米复合材料,且表明了纳米复合材料中BiI3与nylon11分子间的相互作用。

纳米复合材料 X射线光电子能谱法 聚合物膜 氢键 全反射红外光谱法

赵志娟 刘芬 赵良仲

中国科学院化学研究所,北京 100190

国内会议

2009年全国第二届电磁材料及器件学术会议

贵州

中文

133-135

2009-08-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)