二阶非线性光学聚合物膜材料的制备与表征

摘要：

有机非线性光学材料由于其非线性光学系数高，响应速度快，光学损伤阈值高，分子的可设计性，易于加工，可实现光学集成等优势，其已称为近二十年来非线性光学材料研究的热点，在分子设计、合成、材料制备等方面也取得了很大发展。本文设计合成了一种新型稳定的双阴离子偶极发色团分子2-(”4-”4-(2-羧基-2-氰基-乙烯基)-偶氮苯基”苯基”甲基-氨基)乙基酸(DRCB)和重氮阳离子树脂DAR，浅谈了二阶非线性光学聚合物膜材料的制备过程和特征。

关键词： 非线性光学 聚合物膜材料 光学损伤阈值 光学材料

作者: 王世伟 史作深 崔占臣 张大明

作者单位: 吉林大学超分子结构与材料国家重点实验室,长春 130012 吉林大学集成光电子国家联合重点实验室,长春 130012

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国塑料光纤、聚合物光子学会议

会议地点: 长春

会议语种:中文

页码: 157-158

在线出版日期: 2009-08-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）