触头结构对真空电弧特性的影响
真空灭弧室是利用具有一定强度和分布特点的磁场控制电弧形态的演变，从而达到开断短路电流的目的。本文从研究具有不同结构的纵向磁场触头出发，建立了1/2匝线圈以及杯状纵磁触头的三维模型，利用有限元方法对其进行三维涡流场计算获得不同结构参数条件下触头间隙纵向磁场强度和分布形态，并且利用高速摄影装置观察了电弧形态的变化过程，结合仿真计算结果，分析和讨论了结构参数变化对纵磁真空电弧特性的影响。
真空灭弧室 触头结构 真空电弧 磁场控制 杯状纵磁触头 有限元法
成勇 刘广义 修士新
西安高压电器研究院，西安 710077 西安交通大学，西安 710049
国内会议
常州
中文
51-57
2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）