利用分子印迹技术分离腐殖酸中类酞菁结构的物质
腐殖酸是溶解性有机质的主要成分，广泛地分布于自然界中。在太阳光的照射下，有关腐殖酸的光化学过程经常产生活性氧自由基，它可能影响着持久性有毒物质的迁移与转化。腐殖酸中不同物质的分子结构可能是影响其光化学行为的重要因素之一。众所周知，叶绿素是植物生长进行光合作用的主要原因，当它们生命终止，植物的残体会逐渐分解、腐殖化，成为小的有机质。植物体中的基本化学成分或结构可能会在腐殖酸中保留下来。因此，推测腐殖酸中会存在一些结构类似叶绿素的物质。本研究证明了利用分子印迹技术根据结构形态来分离腐殖酸是可行的。并且腐殖酸的光化学活性与其结构有关，最终影响着其他共存的有机污染物的光降解。
腐殖酸 分子印迹 酞菁 2,4-二氯苯氧乙酸 光降解 溶解性有机质 光化学活性
于春艳 全燮
大连理工大学环境与生命学院,大连,116024
国内会议
大连
中文
77
2008-11-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）