磁控溅射陶瓷薄膜(SiOX)阻隔性机理的研究
主要研究了磁控溅射镀陶瓷薄膜(SiOX)使PET 基体阻隔性提高的机理,并对SiOX 层的堆积结构做了假设及理论分析,结合SEM 形貌表明磁控溅射SiOX层存在层状结构及针孔随机分布,阻隔性的提高可由努森扩散和层流两种机理加以解释,即在一定的压力差下,阻隔性提高决定于针孔的分布、陶瓷层厚度以及SiOX层数。
包装材料 磁控溅射陶瓷膜 努森扩散 阻隔性机理
刘壮 林晶 孙智慧 高德
哈尔滨商业大学,哈尔滨,150028
国内会议
珠海
中文
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2008-08-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)