ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究

摘要：

利用微波ECR 加射频功率源等离子体化学气相沉积技术，以CH4 为碳源气体，Ar 气为稀释气体，在硅片（100）上制备了类金刚石（DLC）薄膜。Raman 光谱证实了薄膜的类金刚石特性；傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在明显的C-H 键结构。采用AFM 观察了表面形貌，均方根粗糙度大约为1.489nm，表明薄膜表面比较光滑；最后对其进行了摩擦性能测试，薄膜的平均摩擦系数为0.102。

关键词： 化学气相沉积 类金刚石薄膜 摩擦系数

作者: 桑利军 陈强

作者单位: 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室,北京大兴,102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国包装工程学术会议

会议地点: 珠海

会议语种:中文

页码: 1-7

在线出版日期: 2008-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）