DBD等离子体合成类金刚石薄膜及其性能表征
本文利用一种新颖的高气压介质阻挡放电(DBD)等离子体下游区装置,以CH4 、H2和Ar 气体分别作为碳源与稀释气体,成功地进行了快速合成类金刚石薄膜的探索。实验分别研究了不同气体比例条件下类金刚石薄膜的生长情况,并对所合成的薄膜分别进行了水接触角、表面粗糙度、红外光谱和Raman 光谱测试分析。结果表明,在放电等离子体下游区能够快速沉积特征峰明显的类金刚石薄膜,充分体现了高气压介质阻挡放电在材料合成方面的优势。
DBD等离子体 类金刚石薄膜 性能表征 材料合成
付亚波 桑立军 常龙龙 许文才
北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600
国内会议
珠海
中文
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2008-08-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)