等离子体技术制备氧化硅阻隔层薄膜的研究

摘要：

针对高阻隔包装的不断发展、对新技术要求的不断增加，以及人们对保护环境、节约能源、建立和谐社会更深入的认识，我们采用无任何污染的等离子体技术，进行SiOx 薄膜的沉积及其在高阻隔包装中的应用研究。具体为：（1）电子束蒸发氧化硅；（2）离子源辅助电子束蒸发氧化硅；（3）磁控溅射沉积氧化硅；（4）离子源辅助磁控溅射沉积氧化硅；（5）等离子体化学气相沉积SiOx 等，并对所沉积的薄膜进行结构性能的比较研究。

关键词： 包装材料 阻隔包装 氧化硅薄膜 等离子体

作者: 陈强 孙运金 周美丽 韩而立 杨丽珍 张跃飞 李朝阳

作者单位: 北京印刷学院印刷与包装材料物理与技术北京市重点实验室,北京大兴,102600

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国包装工程学术会议

会议地点: 珠海

会议语种:中文

页码: 1-9

在线出版日期: 2008-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）