氧压对脉冲激光沉积Si基ZnO薄膜性能的影响

摘要：

采用脉冲激光沉积法在Si（111) 基片上制备了ZnO 薄膜。利用X 射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO 薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果表明，氧压的增大，有助于更多的氧原子进入晶格，有效减少薄膜中的缺陷和应力，使ZnO 薄膜结构趋于完整，但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率，加剧衬底Si的氧化，从而使薄膜的结晶质量恶化。所有的ZnO 薄膜均显示出较强的紫外发光峰，并且结晶性与发光特性有很好的一致性。

关键词： 脉冲激光沉积法 结晶特性 光学性能 发光特性 氧化锌薄膜

作者: 滕晓云 郝秋艳 刘彩池 张丽 许贺菊 于威

作者单位: 河北工业大学材料学院，天津 300130 河北大学物理科学与技术学院，保定 071002 河北工业大学材料学院，天津 300130 河北大学物理科学与技术学院，保定 071002

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届固体薄膜会议

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 53-57

在线出版日期: 2006-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）