热处理对电子束蒸发TiO2雕塑薄膜双折射性能影响

摘要：

TiO2雕塑薄膜是一种具有光学各向异性的薄膜,经过退火可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能,薄膜的最佳退火条件为500℃,4小时,其双折射值(△n)达O.115左右。在550nm处相位延迟量为90℃。退火是改善溥膜双折射性能的一种简单实用的方法。本文采用电子束蒸发技术制备了具有斜柱状结构TiO2雕塑薄膜，研究了其在不同的热处理温度和时间条件下，双折射特性的变化规律。

关键词： 二氧化钛 雕塑薄膜 双折射特性 相位延迟 电子束蒸发

作者: 肖秀娣 董国平 邓淞文 邵建达 范正修

作者单位: 上海光学精密机械研究所,201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十四届全国凝聚态光学性质学术研讨会(OPCM”2008)

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 96-97

在线出版日期: 2008-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）