金属薄膜沉积影响因素和生长缺陷的数值

摘要：

本文按膜料为Pt-Ru,Pt-Ti,Pt-Ni和Pt-Al等五种模式,采用刚性球入射到C或Si基底，同时采用膜料粒子为铂原子入射到C基层,研究了在基底缺陷如空穴和间隙原子的形成,并针对薄膜生长初期,提出了“树桩”小岛形成机制。

关键词： 金属薄膜 沉积工艺 薄膜生长 薄膜结构

作者: 宋鹏 陆建生 赵宝禄

作者单位: 昆明理工大学材料与冶金工程学院,昆明 650093

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 508-510

在线出版日期: 2006-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）