基于XRD的化学沉积Ni-P/SiC薄膜残余应力的实验研究

摘要：

本文利用X衍射技术测试了化学沉积后的残余应力,同时测量了激光热处理后残余应力的变化规律,用SEM观察了化学沉积Ni-P/SiC的结构,分析了激光热处理参数对薄膜残余应力的影响规律。结果表明,化学沉积Ni-P/SiC的残余应力均表现为拉应力,经过激光热处理后残余应力发生了变化,由高值的拉应力变为低值的拉应力或压应力,有利于提高薄膜与基体的结合强度。

关键词： 镍磷薄膜 化学沉积 激光热处理 薄膜应力

作者: 孔德军 张永康 鲁金忠 冯爱新

作者单位: 江苏大学机械工程学院,镇江 212013

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 442-444

在线出版日期: 2006-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）