化学镀纳米铜膜的显微结构及电阻率

摘要：

本文采用化学镀铜法,在玻璃表面制备了纳米铜膜，利用原子力显微镜(AFM)研究了铜膜表面形貌的变化。结果表明，在玻璃表面形成完整致密的化学镀铜膜需要约3min左右的时间,根据晶粒尺寸和电阻率数据,利用电阻率组合模型计算了晶界散射系数(R)以及表面和晶界散射对总电阻率的贡献,结果表明晶界散射对总电阻率的贡献比表面散射对总电阻率的贡献大很多,也说明晶界数目的增多是造成总电阻率偏高的主要因素。

关键词： 纳米铜膜 薄膜结构 薄膜电阻率 化学镀工艺

作者: 张会平 江中浩 连建设

作者单位: 吉林大学材料科学与工程学院,吉林大学汽车材料教育部重点实验室,长春 130025

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年全国博士生学术论坛——材料科学分论坛

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 256-258

在线出版日期: 2006-10-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）