光刻与光刻胶

摘要：

微电子技术可算得上是人类有年史以来最卓越的技术，微电子技术的发展迅猛异常，迄今为止，在人类的科学技术史还没有一种技术象它这样地真正做到日新月异。本文介绍了计算机和集成电路的发展过程和集成电路的制造，阐述了深紫外光光刻技术和光刻胶的发展、深紫外光刻(DUV)与化学增幅抗蚀剂的关系以及软X光光刻和电子束(EB)光刻。

关键词： 微电子技术 光刻技术 光刻胶

作者: 洪啸吟

作者单位: 清华大学

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年特种化工材料技术研讨会

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 10-16

在线出版日期: 2006-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）