国内外光刻胶现状及发展趋势

摘要：

本文主要介绍了国内外光刻胶技术现状及发展趋势,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶研发的重点工作,应解决的关键技术及未来的发展方向。

关键词： 微电子 光刻胶 技术分析

作者: 王艳梅

作者单位: 北京化学试剂研究所北京科华微电子材料有限公司 北京 100022

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年特种化工材料技术研讨会

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 17-23

在线出版日期: 2006-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）