浅谈我国三氟化氮的现状和对策

摘要：

三氟化氮可用作高能化学激光器的氟源，是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，有更高的蚀刻速率和选择性，是非常良好的清洗剂，同时也是是半导体与LCD产业制造过程中必备的材料。本文综述了我国三氟化氮的发展和现状，分析了市场形势，并提出了三氟化氮今后发展的对策。

关键词： 三氟化氮 等离子蚀刻气体 氧化氢铵 半导体产业

作者: 宋在卿 李绍波

作者单位: 中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北 邯郸 056027

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006全国低温与特种气体技术交流大会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 49-51

在线出版日期: 2006-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）