高效率熔融石英光栅的设计和制作
本文介绍了一种用于密集波分复用系统的深刻蚀高密度熔融石英光栅的设计和制作过程。感应耦合等离子体刻蚀技术(ICP)被用来制作这种高效率的熔融石英光栅。所制作的光栅在1550nm波长的实测效率达到了87.1%,并且具有偏振依赖性小、可并行解复用和光学性质稳定等优点,非常适用于密集波分复用系统。所制作的高密度深刻蚀熔融石英光栅将在DWDM系统中起到很大的作用。
波分复用 光学器件 石英光栅 刻蚀技术
王顺权 周常河 茹华一 张妍妍
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800 中国科学院研究生院,北京 100039
国内会议
上海
中文
89-93
2006-11-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)