二元光学元件的制作技术与进展

摘要：

本文阐述了二元光学元件的常用制作工艺技术，包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法，分析了这些方法的优缺点，并对其制作技术的发展进行了评述。

关键词： 集成光学 光学器件 二元光学 刻蚀工艺

作者: 张羽 杨坤涛 杨长城

作者单位: 华中科技大学光电系,湖北武汉 430074 华中光电技术研究所,湖北武汉 430074

会议类型: 国内会议

会议名称: 2006年二十一世纪中国光电产业发展论坛

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 432-436

在线出版日期: 2006-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）