纳米压印及相关核心技术

摘要：

纳米压印技术由于具有超高分辨率、高产量、低成本等显著特点,将成为下一代光刻技术(NGL)的主要候选者之一。本文分析了影响纳米压印工艺过程的主要核心技术及研究现状,如模板制备、光刻胶、高精度压印制程条件、模板与基片分离技术等,并在最后给出了光栅结构图案的压印结果,最小线宽达50nm。

关键词： 纳米压印 光刻胶 压印工艺 基片分离

作者: 李小丽 朱兆颖 万永中 刘彦伯 王庆康

作者单位: 上海市纳米科技与产业发展促进中心,上海 200237 上海交通大学微纳科学研究院,上海 200030 同济大学机械学院机电系,上海 200092 上海市纳米科技与产业发展促进中心,上海 200237 上海交通大学微纳科学研究院,上海 200030

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届上海纳米科技与产业发展研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 261-271

在线出版日期: 2006-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）